有兩種薄膜，低應力lpcvd氮化硅膜具很強機械強度，適合高溫和差壓環(huán)境；G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺，非常適合x射線顯微鏡和需要無氮氣背景的分析。這些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學技術的理想襯底，經(jīng)過等離子清洗，無有機污染。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場到場可變性和高x射線透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口（G-FLAT™ SiO X-Ray Window），適合生物成像研究，具有玻璃狀親水表面。外框硅材質，外框大小5*5mm，框厚310µm，膜厚度300nm。無褶皺，與超高真空(UHV)應用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320µm，200 MP 低應力無孔氮化硅。
產品信息：
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貨號 |
產品描述 |
窗口(Sq.) |
膜厚 |
規(guī)格 |
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76042-10 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10個/盒 |
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76042-11 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
300nm |
10個/盒 |
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76042-12 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
50nm |
10個/盒 |
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76042-13 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
50nm |
10個/盒 |
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76042-14 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10個/盒 |
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76042-15 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
100nm |
10個/盒 |
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76042-16 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1500µm |
200nm |
10個/盒 |
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76042-17 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
2500µm |
200nm |
10個/盒 |
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