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產(chǎn)品導(dǎo)航
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載網(wǎng)和支持膜 產(chǎn)品展示
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（Holy Silicon Nitride TEM Grids）
多孔氮化硅膜窗口（陣列孔薄膜），3mm直徑的外框架(其厚200um)，內(nèi)有0.5*0.5mm大小的窗口！我們使用先進(jìn)的MEMS技術(shù)，生產(chǎn)出的多孔氮化硅膜（微陣列孔膜），膜厚度200 nm，多孔膜區(qū)域達(dá)0.45*0.45mm大小，膜耐酸、堿和溶劑，耐受高溫實(shí)驗(yàn)(高達(dá)1000°C)。
低溫金屬載網(wǎng)盒
低溫金屬載網(wǎng)盒
用于低溫電鏡的載網(wǎng)儲(chǔ)存盒轉(zhuǎn)運(yùn)
mPrep?載網(wǎng)制樣套裝
mPrep?載網(wǎng)制樣套裝
mPrep?載網(wǎng)制樣套裝是由制樣管、染色管及輔助工具組成，制樣管用于樣品固定、染色和包埋；染色管用于載網(wǎng)染色和存放載網(wǎng)。
載網(wǎng)冷凍干燥臺(tái)（TEM Grid Freeze Drying Holder）
載網(wǎng)冷凍干燥臺(tái)（TEM Grid Freeze Drying Holder）
電鏡低溫用品，承載電鏡載網(wǎng)，可以容納24個(gè)載網(wǎng)
載網(wǎng)樣品盒（Grid Storage Box）
載網(wǎng)樣品盒（Grid Storage Box）
每個(gè)盒可以存放100個(gè)3.05mm的TEM載網(wǎng)，并對(duì)存儲(chǔ)格間進(jìn)行數(shù)字/字母組合編碼，便于記錄和檢索所存儲(chǔ)的TEM樣品
超薄連續(xù)碳膜
超薄連續(xù)碳膜
沒有方華膜（Formvar）支撐，在蕾絲碳膜上鍍一層更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄純碳支持膜
GIG純碳陣列微柵膜
GIG純碳陣列微柵膜
該產(chǎn)品與C-FLAT類似：微孔尺寸相同、排列一致，支持膜純凈、無任何有機(jī)層（參考以下圖片），國(guó)產(chǎn)中的精品
斷層掃描銅網(wǎng)
斷層掃描銅網(wǎng)
這種邊長(zhǎng)1.5mm、300目的方形銅網(wǎng)，用于Fischione斷層掃描的標(biāo)本支架。該銅網(wǎng)的尺寸允許其在制備好的TEM樣品中進(jìn)一步傾斜。旋轉(zhuǎn)超過90°時(shí)，識(shí)別標(biāo)記和方形的形狀方便參考。
X-ray應(yīng)用薄膜窗口（X-Ray Windows）
X-ray應(yīng)用薄膜窗口（X-Ray Windows）
有兩種薄膜，低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度，適合高溫和差壓環(huán)境；G-FLAT?氧化硅膜平坦無褶皺，非常適合x射線顯微鏡和需要無氮?dú)獗尘暗姆治觥?/span>
純硅窗口Pure Silicon Windows
純硅窗口Pure Silicon Windows
純硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm，利用濺射沉積純硅，允許對(duì)含氮和/或碳的樣品進(jìn)行元素分析。單晶純硅具有<1-0-0>取向，制作35 nm的薄膜，用于衍射研究和其它需要從單晶薄膜中獲得均勻的背景應(yīng)用，。無孔硅薄膜輕微起皺，大約100微米間距有5微米或更少的偏轉(zhuǎn)，這對(duì)于高分辨率成像來說通常是沒有問題的。納米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔，孔徑一般在10-60納米范圍。
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